TTV

TTV加热块

TTV加热块采用厚膜加热工艺,最大功率密度可达300W/cm²,基板采用氮化铝材质,导热系数高,承压能力强。TTV加热块通过加热块输入电压,可模拟芯片发热工作状态。
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产品详情

TTV加热块采用厚膜加热工艺,最大功率密度可达300W/cm²,基板采用氮化铝材质,导热系数高,承压能力强。TTV加热块通过加热块输入电压,可模拟芯片发热工作状态。

 

 

 

主要特点:

 

  • 体积小,发热功率大,最大功率密度可达300W/cm²
  • 特殊金属烧结发热工艺,耐温性强,可靠性高
  • 氮化铝承载基板,导热系数高、抗压性能强,温度均匀
  • 均匀性及非均匀性设计,满足多热源需求
  • 发热功率无极调节,集成温度、功率显示

 

 

 

 

产品应用:

 

  • 模拟热源发热

 

 

 

功率(W) 电压(V) 电阻(Ω)@20~25℃ 外形尺寸(mm) 发热区域(mm) 功率密度(W/cm2)
200 220 242±5% 43*25*2.5 25*25 32
250 220 193.6±5% 74*50*3 50*50 10
550 220 88± 2%  115*62*3 78.46*31.1 22.54
800 220 60.5 ± 2%  49.2*32*3 32.3*25.6 96.75
1000 220 48.4±5% 74*50*3 50*50 40
1500 240 38.4±2% 49.2*35*3 23.9*29.36 214.2
2500 220 19.36 ± 2%  74*50*3 48.6*48.2 106.72
2500 220 19.36±2% 49.2*35*3 32.3*25.6 300

 

 

 

 

 

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